應(yīng)用光學(xué)雜志 北大期刊 統(tǒng)計源期刊
主管單位：中國兵器工業(yè)集團有限公司 主辦單位：中國兵器工業(yè)第二O五研究所;中國兵工學(xué)會
雙月刊 審稿周期：預(yù)計1-3個月 全年訂價：￥400.00
《應(yīng)用光學(xué)》由紀(jì)明擔(dān)任主編，創(chuàng)刊于1980年，由中國兵器工業(yè)集團有限公司主管、中國兵器工業(yè)第二O五研究所;中國兵工學(xué)會主辦的一本科學(xué)領(lǐng)域?qū)I(yè)期刊。主要刊載該領(lǐng)域內(nèi)的原創(chuàng)性研究論文、綜述和評論等，力求及時、準(zhǔn)確、全面的反映該領(lǐng)域的政策、技術(shù)、應(yīng)用市場及動態(tài)。
- 61-1171/O4 國內(nèi)刊號
- 1002-2082 國際刊號
- 2321 發(fā)文量
- 0.94 影響因子
- 11858 總被引量
- 52-245 郵發(fā)代號
- 1980 創(chuàng)刊時間
應(yīng)用光學(xué)期刊信息
- 出版語言：中文
- 創(chuàng)刊時間：1980年
- 國際刊號：1002-2082
- 主編：紀(jì)明
- 紙張開本：A4
- 國內(nèi)刊號：61-1171/O4
- 出版地區(qū)：陜西
- 發(fā)行周期：雙月刊
- 郵發(fā)代號：52-245
應(yīng)用光學(xué)期刊榮譽
應(yīng)用光學(xué)投稿須知
(1)編輯部有權(quán)對文稿進行適當(dāng)壓縮、修改，作者如不同意刪改，請在文末注明；作者文責(zé)自負(fù)。
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(4)圖、表和公式應(yīng)通篇分別編號，圖題、表題應(yīng)有中英文對照。表格應(yīng)采用三線表形式，內(nèi)容以英文表述。
(5)稿件具體格式、體例請參考近期出版的本刊雜志。
應(yīng)用光學(xué)編輯部聯(lián)系方式
地址：西安市電子三路西段9號
郵編：710065
主編：紀(jì)明
應(yīng)用光學(xué)發(fā)文選摘
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1、基于液體透鏡的仿生視覺光學(xué)成像系統(tǒng)
作者：孟曉辰; 樊凡; 祝連慶; 婁小平
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2、基于轉(zhuǎn)鏡同步跟蹤系統(tǒng)的研究
作者：馮斌; 史元元; 武耀霞; 陳儒婷
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3、應(yīng)用于激光掃描投影儀器的動態(tài)聚焦技術(shù)研究
作者：侯茂盛; 楊帆; 孫明利; 李麗娟; 朱運東; 林雪竹
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4、一種可實現(xiàn)收發(fā)一體連續(xù)掃描的微透鏡陣列
作者：謝洪波; 王瑤; 毛晨盛; 蘇永鵬; 楊磊
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5、差動柔性繩傳動慣性穩(wěn)定平臺載荷分析與結(jié)構(gòu)校核
作者：李大泉; 洪華杰; 原東陽; 江獻良
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6、空間旋轉(zhuǎn)多光軸平行性校準(zhǔn)技術(shù)
作者：趙瑋; 昌明; 劉虎; 趙紅軍; 姜峰; 李玉喜; 張向明; 楊曉強
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7、基于棱鏡結(jié)構(gòu)的雙波長M-Z干涉系統(tǒng)設(shè)計
作者：李曉曉; 沈濤; 周燕
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8、大口徑超長焦距緊湊型光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計
作者：徐萌萌; 薛棟林; 曾雪鋒
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9、大口徑長焦距變焦光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計
作者：白虎冰; 繆禮
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10、基于線陣CCD的光學(xué)測角嵌入式系統(tǒng)設(shè)計
作者：程瑤; 趙建; 米曾真
應(yīng)用光學(xué)期刊評價分析
年發(fā)文量和被引次數(shù)
影響因子和立即指數(shù)
應(yīng)用光學(xué)期刊評價報告
| 年份 | 2013 | 2014 | 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 |
| 被引次數(shù) | 941 | 1039 | 1022 | 1049 | 1027 | 1009 | 1091 | 1251 | 1164 | 1305 |
| 影響因子 | 0.45 | 0.57 | 0.48 | 0.51 | 0.48 | 0.65 | 0.94 | 1.07 | 0.97 | 1.15 |
| 立即指數(shù) | 0.04 | 0.12 | 0.06 | 0.04 | 0.05 | 0.11 | 0.12 | 0.13 | 0.11 | 0.15 |
| 發(fā)文量 | 209 | 207 | 172 | 166 | 170 | 157 | 177 | 184 | 160 | 165 |
| 被引半衰期 | 4.94 | 4.94 | 5.38 | 5.87 | 5.92 | 6.4 | 5.36 | 4.94 | 4.95 | 4.41 |
| 引用半衰期 | 5.32 | 5.87 | 5.96 | 5.83 | 6.27 | 5.77 | 5.58 | 5.2 | 5.93 | 5.9 |
| 期刊他引率 | 0.76 | 0.76 | 0.8 | 0.8 | 0.79 | 0.81 | 0.75 | 0.76 | 0.8 | 0.8 |
| 平均引文率 | 10.4 | 9.4 | 6.3 | 15.4 | 14.1 | 16.2 | 17.4 | 19.5 | 17.6 | 19 |
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主辦：中華醫(yī)學(xué)會
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光學(xué)儀器
主辦：上海光學(xué)儀器研究所;中國儀器儀表學(xué)會;中國光學(xué)學(xué)會工程光學(xué)專業(yè)委員會
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主辦：中國科學(xué)院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院
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主辦：中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所;中國儀器儀表學(xué)會
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中國光學(xué)
主辦：中國科學(xué)院長春光學(xué);精密機械與物理研究所;中國光學(xué)學(xué)會
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